ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಮುಂದಿನ ನಿರ್ಣಾಯಕ ಹಂತವೆಂದರೆ ಅಯಾನ್ ಎಕ್ಸ್ಚೇಂಜ್, ಇದು ಸ್ಫಟಿಕ ರಚನೆಯಲ್ಲಿನ ಸೋಡಿಯಂ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ, ಪೊಟ್ಯಾಸಿಯಮ್ ಅಥವಾ ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್ನಂತಹ ಇತರ ಕ್ಯಾಟಯಾನ್‌ಗಳೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಯಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ ಮತ್ತು ಆಯ್ಕೆ ಸೇರಿದಂತೆ ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಈ ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ. ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯಕ್ಕಾಗಿ ಬಳಸುವ ಕ್ಯಾಷನ್ ಪ್ರಕಾರವು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ.

ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯದ ನಂತರ, ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳು ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಯಾವುದೇ ಕಲ್ಮಶಗಳು ಮತ್ತು ಉಳಿದ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ತೊಳೆಯುವ ಮತ್ತು ಒಣಗಿಸುವ ಹಂತಗಳ ಸರಣಿಯನ್ನು ಪಡೆಯುತ್ತವೆ. ಅಂತಿಮ ಉತ್ಪನ್ನವು ಕೈಗಾರಿಕಾ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಅಗತ್ಯವಾದ ಕಠಿಣ ಶುದ್ಧತೆಯ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಇದು ಖಾತ್ರಿಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ತೊಳೆಯುವುದು ಮತ್ತು ಒಣಗಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಪೂರ್ಣಗೊಂಡ ನಂತರ, ಸ್ಫಟಿಕದ ರಚನೆಯನ್ನು ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸಲು ಮತ್ತು ಉಳಿದ ಯಾವುದೇ ಸಾವಯವ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಲೆಕ್ಕಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅಂತಿಮ ಹಂತವು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳನ್ನು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ತಯಾರಿಸಲು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಈ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಿಸಿ ಮಾಡುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿತೇವಾಂಶವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಮತ್ತು ಅದರ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ. ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿ ಅಪೇಕ್ಷಿತ ರಂಧ್ರದ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣವನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅವಧಿ ಮತ್ತು ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಎಚ್ಚರಿಕೆಯಿಂದ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.