ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಮುಂದಿನ ನಿರ್ಣಾಯಕ ಹಂತವೆಂದರೆ ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯ, ಇದು ಸ್ಫಟಿಕ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಸೋಡಿಯಂ ಅಯಾನುಗಳನ್ನು ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ, ಪೊಟ್ಯಾಸಿಯಮ್ ಅಥವಾ ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್‌ನಂತಹ ಇತರ ಕ್ಯಾಟಯಾನುಗಳೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಯಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಈ ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ ಮತ್ತು ಆಯ್ಕೆಯನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಂತೆ ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ನಿರ್ಣಾಯಕವಾಗಿದೆ. ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯಕ್ಕಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಕ್ಯಾಷನ್ ಪ್ರಕಾರವು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ.

ಅಯಾನು ವಿನಿಮಯದ ನಂತರ, ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳು ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಯಾವುದೇ ಕಲ್ಮಶಗಳನ್ನು ಮತ್ತು ಉಳಿದ ರಾಸಾಯನಿಕಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ತೊಳೆಯುವ ಮತ್ತು ಒಣಗಿಸುವ ಹಂತಗಳ ಸರಣಿಗೆ ಒಳಗಾಗುತ್ತವೆ. ಅಂತಿಮ ಉತ್ಪನ್ನವು ಕೈಗಾರಿಕಾ ಅನ್ವಯಿಕೆಗಳಿಗೆ ಅಗತ್ಯವಾದ ಕಟ್ಟುನಿಟ್ಟಾದ ಶುದ್ಧತೆಯ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಇದು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ. ತೊಳೆಯುವ ಮತ್ತು ಒಣಗಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಪೂರ್ಣಗೊಂಡ ನಂತರ, ಸ್ಫಟಿಕದ ರಚನೆಯನ್ನು ಸ್ಥಿರಗೊಳಿಸಲು ಮತ್ತು ಯಾವುದೇ ಉಳಿದ ಸಾವಯವ ಸಂಯುಕ್ತಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಕ್ಯಾಲ್ಸಿನ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅಂತಿಮ ಹಂತವು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿಗಳನ್ನು ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಿಗಾಗಿ ತಯಾರಿಸಲು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಈ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಿಸಿಮಾಡುವುದನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿತೇವಾಂಶವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಮತ್ತು ಅದರ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ. ಅಪೇಕ್ಷಿತ ರಂಧ್ರದ ಗಾತ್ರ ಮತ್ತು ಆಣ್ವಿಕ ಜರಡಿ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣವನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಅವಧಿ ಮತ್ತು ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಎಚ್ಚರಿಕೆಯಿಂದ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.